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20微米的單層TiN

日期:2018年3月7日 16:31

PVD超硬涂層以其高硬度和耐磨特性而眾所周知。通常這種膜層被沉積在刀具及耐磨部件上,其厚度范圍在0.5 – 6 µm。

為控制這種膜層的內應力,這種涂層主要采用納米多層結構,以避免因較厚的單層膜而容易出現剝落現象。

按照一個客戶的要求,PVT公司開始著手開發一個工業化生產涂層工藝,用于沉積20微米厚的單層氮化鈦。經過6個月的開發,一臺PVT S2超硬涂層設備被制造出來,滿足了客戶的所有需求,這也特別歸功于PDA*技術。

該系統沉積出的20微米厚TiN膜層具有極其良好結合力,出色的重復性公差僅為+/- 0.2微米(總涂層厚度的+ / - 1%)。此外,通過新設計定制的旋轉夾具,沉積20微米厚膜層的時間可以從10.5小時減少到3個小時。

*PDA = Plasma Diffused Arc 等離子擴散電弧

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